全反射X射线荧光（TXRF）利用抛光晶片表面的极低角度X射线激发来获得表面金属污染物的浓度。
X 射线束的入射角（通常为 0.05-0.5°）低于基板的临界角和限制 激励 到样品的最外表面（~顶部 80 Å，取决于材料）。 从样品发出的荧光信号是存在的元素污染物的特征。
TXRF是一种高度表面敏感的技术，专门用于分析半导体晶圆（如Si，SiC，GaAs或蓝宝石）上的表面金属污染。
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