俄歇电子能谱（AES或Auger）是一种表面敏感的分析技术，它利用高能电子束作为激发源。 被电子束激发的原子随后会松弛，从而导致“俄歇”电子的发射。 发射的俄歇电子的动能是样品顶部3-10 nm之内的元素的特征。
AES是我们的一部分 智能图表系列。 另外，由于光点尺寸的范围，它提供了出色的表面灵敏度和小的光点尺寸。
此技术以法国物理学家Pierre Victor Auger在1923年的名字命名。但是，现在大多数人都认可了奥地利-瑞典物理学家 Lise Meitner 作为第一个发现从原子表面发射电子可以产生能量特征的人。
主要应用
由于电子束直径较小，AES 在投资粒子和小区域时非常有用，因为它能够研究小于 25 nm 的尺寸。 当薄膜太薄时，它也提供了一个很好的选择 EDS分析. AES 可以通过溅射将薄膜叠层采样到一微米或更深的深度。
最重要的是，AES 是一种半定量方法，这意味着我们通常根据设备制造商提供的标准灵敏度因素提供结果。 如果需要更准确的结果，可以通过查看已知成分并将它们与未知材料进行比较来获得。
可以在大小可变的区域上扫描电子束，也可以将其直接聚焦在感兴趣的特定表面特征上。 将电子束聚焦到10-20 nm直径的能力使得 俄歇电子能谱是一种非常有用的小表面特征元素分析工具。 还可以考虑的其他技术是 XPS 以及 TXRF。 当与溅射离子枪结合使用时，俄歇电子能谱还可以执行成分深度分析。
理想用途
- 缺陷分析
- 粒子分析
- 表面分析
- 小面积深度剖析
- 薄膜分析组合物
- 冶金分析
优势强项
- 首先，小面积分析（最小约20 nm）
- 其次，出色的表面灵敏度（3-10 nm的信息深度）
- 第三，良好的深度分辨率
缺点限制
- 最佳量化所需的标准
- 绝缘体可能很难
- 样品必须与真空兼容
- 检测灵敏度通常为0.1-1 at％
技术规格
- 检测到信号：来自近表面原子的俄歇电子
- 检测到元素：Li-U
- 检测限：0.1-1at％； 亚单层
- 深度分辨率：2-20 nm（在深度分析模式下）
- 成像/映射：是的
- 横向分辨率/探针尺寸：≥10 纳米
康派斯在处理常规和非常规俄歇分析请求方面拥有无与伦比的经验，多年来，一直使用俄歇电子光谱来解决各种工业分析应用。
康派斯广泛的俄歇电子光谱学专业知识具有直接的分析优势，无论我们是分析亚微米颗粒以确定晶圆加工设备中的污染源，还是分析电子设备中的缺陷以调查故障的根本原因。 最后，俄歇分析在 冶金 研究，包括在电镀抛光氧化层厚度的测定 医疗器械，康派斯不断利用其经验帮助解决许多行业领域客户的苛刻问题。
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