Ellipsometry是一种功能强大的分析工具，用于表征许多材料中的薄膜，包括半导体，介电薄膜，金属和聚合物。 它也称为光谱椭偏仪（SE），它是一种非接触式非破坏性光学技术，可测量与样品相互作用后反射光的偏振变化。 极化的这种变化与材料特性有关。

椭偏法主要用于测量薄膜厚度，折射率（n）和消光系数（k），但也可以用于研究影响光偏振的其他属性，例如粗糙度，光学各向异性（双折射），晶体性质，组成，光学带隙和热膨胀。 请注意，此技术不会直接测量这些参数。 为了提取有关薄膜的有用信息，构建了一个描述样品光学参数的模型。 然后，拟合未知参数以获得理论响应和实验数据之间的最佳匹配。

理想用途

• 平面基板上有机和无机薄膜的厚度，光学常数
• 多层样品的单层厚度

优势强项

• 非接触，非破坏性
• 不受光源强度不稳定性或大气吸收的影响
• 快速
• 精确的薄膜厚度和光学常数测量

缺点限制

• 没有直接测量材料特性; 必须将样品的光学模型拟合到数据中
• 需要光学平坦的样品表面

技术规格

• 获得的数据： 反射和透射椭偏数据、偏振透射和反射强度（波长范围 192–1689 nm）
• 横向信息： 200 μm 或 2 mm，取决于光斑尺寸。 自动样品平移台（150×150 mm）可用于映射程序
• 精度（厚度，光学常数）： 主要取决于光学模型如何描述真实样本。 对于厚度，精度（重复性）可以优于0.1 nm，对于n和k，精度（重复性）优于0.001
• 样品类型和要求： 具有光学平坦基板的固体，薄层和多层。 从亚单层覆盖到μm范围的厚度
• 加热实验： 可在不同环境下进行温度（最高 300°C）相关测量
• 现货尺寸：  200μm或2 mm

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